• Particolarmente adatto per il rivestimento di alta qualità dei campioni non conduttivi nell'imaging di microscopia elettronica di scansione e utilizzato anche per l'analisi dello spettro energetico di microscopia elettronica di scansione.
  

  Caratteristiche principali

  lpassa attraverso1Collegato a una pompa per vuoto, può garantire buoni effetti di placcatura in oro e carbonio senza alcuna contaminazione incrociata tra carbonio e metallo.

  lUtilizzando una efficiente testa magnetron DC a bassa tensione per il processo di spruzzatura fine a stato freddo, la superficie del campione è evitata da essere danneggiata.

  lIl controllo digitale della corrente del rivestimento a spruzzo non è influenzato dalla pressione del gas argon nella camera del campione e può raggiungere la velocità di rivestimento costante e l'effetto di rivestimento ottimale.

  Possono essere utilizzati materiali metallici multipli:Pt，Au/Pd，Au，Pt/Pd（PtTarget come standard), la sostituzione del materiale di destinazione è veloce e conveniente.

  lattraverso l'uso diMTM-20Il regolatore di spessore del film ad alta risoluzione (opzionale) interrompe il processo di spruzzatura quando viene raggiunto lo spessore del film impostato.

  lL'unico sistema di evaporazione controllato a feedback può raggiungere l'alto spessore del film20nmEseguire evaporazione multipla su entrambi i lati senza la necessità di tagliare o regolare la forma dell'asta di carbonio.

  lL'asta di carbonio ad alta purezza utilizzata può raggiungere l'effetto di rivestimento di alta qualità in condizioni di ingrandimento elevato.

  lUtilizzando un nuovo tipo di dispositivo di evaporazione: corrente e tensione sono monitorati attraverso la linea di rilevamento della testa magnetica e la sorgente di evaporazione è controllata come parte del ciclo di feedback. Questo dispositivo di evaporazione conferisce alle barre di carbonio convenzionali un'eccellente stabilità e riproducibilità. Basso consumo energetico ed eccellenti caratteristiche di ri evaporazione delle barre di carbonio. La sorgente di evaporazione può essere azionata in modo pulsato o continuo.

  lIn modalità automatica, la sorgente di evaporazione spruzza secondo la tensione e il tempo programmati. In modalità manuale, il design unico consente il funzionamento in modalità impulso o continua e la tensione di uscita è controllata tramite una manopola.

  Parametro tecnico

  Sistema di doratura
  Dimensione della stanza del campione	diametro120mmx 120mmalto
  Materiale bersaglio	AuObiettivo come standard,Au:Pd, Pt, Pt:Pd(Facoltativo);Dimensioni: Diametro57mmx 0.1mmspessore
  fase di campionamento	Può essere caricato12individualeSEMIl supporto del campione ha una gamma regolabile in altezza di60mm Fase del campione inclinato rotante opzionale, velocità di rotazione:0~120 giri/minAngolo di inclinazione regolabile:0~90° Regolabile. La fase del campione rotante ha una protezione separata della camera per prevenire la contaminazione.
  Controllo dello sputtering	Controllo del microprocessore, interblocco di sicurezza, regolabile, corrente massima40mAControllo digitale programmatico
  Testa di sputtering	Magnetron planare a bassa tensione, sostituzione rapida del materiale dell'obiettivo, scudo dell'area oscura circostante
  Metrologia analogica	Vuoto:Atm - 0.001mbar corrente elettrica:0—50mA
  Monitoraggio dello spessore (opzione)	usoMTM-20Il regolatore di spessore ad alta risoluzione (opzionale) termina automaticamente il processo di sputtering o utilizzaMTM-10Lo strumento di monitoraggio dello spessore ad alta risoluzione (opzionale) termina manualmente il processo di sputtering
  Metodo di controllo	Funzione automatica di scambio e rilascio del gas, elaborazione automatica di selezione, timer digitale con controllo "pausa" (0－300s)deflazione automatica
  Sistema desktop	La pompa per vuoto può essere posizionata su una piattaforma sismica, con un sistema di accoppiamento completamente metallico integrato
  Sistema di placcatura al carbonio
  Dimensione della stanza del campione		diametro120 x 120 mmalto
  Fonte vapore		Bradleytipo(barre da 6,15 mm, [1/4"]) Struttura in acciaio inossidabile ad alta resistenza
  Controllo dell'evaporazione		Controllo loop di feedback basato su microprocessore, capace di controllo remoto della corrente/Induzione di tensione, funzione di interblocco di sicurezza basata sul livello di vuoto variabile, corrente massima180AFornire protezione da sovracorrente
  fase di campionamento		Può essere installato12Portacampioni, con un'altezza di30mmRegolabile all'interno della gamma
  Metrologia analogica		vuoto: atmos - 0.001mb;corrente elettrica: 0-200A
  Metodo di controllo		Controllo automatico dell'evaporazione, utilizzando tensione e tempo programmati Controllo completamente manuale in modalità pulsata o continua Timer digitale(0－9,9s） Impostazione della tensione digitale(da 0,1 a 6,0V）
  sistema di vuoto
  pompa per vuoto		2Pompa per vuoto ad alta velocità collegata direttamente
  velocità di pompaggio		100L/MIN
  rumore		50dB
  mbar		≤1 x 10-3 Torr